专利名称：掩模版清洗水供给系统专利类型：实用新型专利发明人：王健
申请号：CN201520156443.X申请日：20150318公开号：CN204523724U公开日：20150805
摘要：一种掩模版清洗水供给系统，包括用以提供清洗用去离子水的一水箱；通过一供水管路与该水箱连通的一供水阀，该供水阀的出水能够用于掩模版的清洗；串设在该水箱与该供水阀之间的供水管路上的一增压泵；用以探测该增压泵的输出端水压的一水压传感器；以及与该水压传感器和增压泵均相连的一控制器，该控制器能够根据该水压传感器提供的信号对该增压泵的工作状态进行控制以调节该增压泵的输出端水压。能够很好地保证掩膜板在清洗过程中DI水水压的稳定。
申请人：深圳市龙图光电有限公司
地址：518000 广东省深圳市宝安区沙井街道新玉路北侧圣佐治科技工业园4#厂房一楼
国籍：CN
代理机构：深圳市君盈知识产权事务所(普通合伙)
代理人：陈琳
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