专利名称：一种改善低压化学气相沉积设备中粒子污染的方法专利类型：发明专利发明人：柴利林
申请号：CN200710187793.2申请日：20071130公开号：CN101451235A公开日：20090610
摘要：本发明涉及半导体制造工艺技术领域，且特别涉及一种改低压化学气相沉积设备中粒子污染的方法。本发明的改善低压化学气相沉积设备中粒子污染的方法，在沉积工艺完成后，将晶舟从反应管中取出，改变反应管内的温度，使反应管表面比较脆弱的薄膜因温度冲击而剥落；然后，通入气体清洗反应管，去除剥落的薄膜。通过在沉积完成后，较大幅度的改变反应管的温度，可以使即将剥落的薄膜因温度的冲击而剥落，然后用惰性气体将剥落的薄膜清洗出，便会大大减少在沉积过程中可能发生的薄膜剥落和粒子污染，减少对产品的损害，提高产品的合格率。
申请人：和舰科技(苏州)有限公司
地址：215025 江苏省苏州市苏州工业园区星华街333号
国籍：CN
代理机构：北京连和连知识产权代理有限公司
代理人：张春媛
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