专利名称：用于沉积OLED像素的金属材料的沉积掩模及其制
造方法
专利类型：发明专利发明人：金海植,白智钦申请号：CN201880070153.X申请日：20180824公开号：CN111295773A公开日：20200616
摘要：根据实施方式的一种用于沉积OLED像素的金属材料的沉积掩模，其中，所述沉积掩模包括：用于形成沉积图案的沉积区域和除了沉积区域之外的非沉积区域，沉积区域包括在纵向方向上间隔开的多个有效部分和除了有效部分之外的无效部分，有效部分包括：在一个表面上形成的多个小表面孔；在与该一个表面相对的另一表面上形成的多个大表面孔；与小表面孔和大表面孔连通的通孔；以及在多个通孔之间的岛状部分，通孔的直径为33μm或更小，分辨率为500PPI或更高，其中通孔之间的间隔为48μm或更小，小表面孔相对于该一个表面的倾斜角度为70°至89°，并且小表面孔相对于该一个表面的倾斜曲率半径为3μm至86μm。
申请人：LG伊诺特有限公司
地址：韩国首尔
国籍：KR
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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