张清涛;李艳秋
【期刊名称】《微细加工技术》 【年(卷),期】2005(000)003
【摘 要】研究了常用的国产BP212正型紫外光刻胶和光学曝光机在利用剥离工艺制备电极中的适用性.结果表明,采用国产的光刻胶和曝光设备完全可以得到实用性的带有凹面的光刻胶剖面和线条均匀性达到微米级的金属线条,简化了lift-off工艺,降低了成本,改进了金属电极的制备方法. 【总页数】4页(P53-56) 【作 者】张清涛;李艳秋
【作者单位】中国科学院电工研究所,微纳技术及应用研究组,北京,100080;中国科学院电工研究所,微纳技术及应用研究组,北京,100080 【正文语种】中 文 【中图分类】TP271+.4 【相关文献】
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