专利名称：掩膜版、显示面板和显示设备专利类型：发明专利
发明人：高文辉,张锴,宋二龙,王领然,柳建杰申请号：CN202011174883.X申请日：20201028公开号：CN112285996A公开日：20210129
摘要：本申请公开了一种掩膜版、显示面板和显示设备。该掩膜版包括：掩膜版包括：透明基板；不透光膜层，该不透光膜层设置于透明基板上，不透光膜层中设置有多个第一透光区域和多个第二透光区域，第一透光区域中的第一子区域和第二透光区域为全透光区域，第一透光区域中的剩余区域为非全透光区域。该掩膜版被用于曝光形成显示面板的平坦层中的过孔，使设置于该过孔中的金属电极层与显示面板的源漏极层之间的夹角较小且多样化，降低了金属电极层的可视度，解决了显示面板黑态时，强光下发灰的现象。
申请人：京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：郭栋梁
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