专利名称：基板处理装置的腔室清洁方法专利类型：发明专利
发明人：斋藤幸正,日向寿树,土桥和也,池田恭子,守谷修司申请号：CN201680069784.0申请日：20161020公开号：CN108292598A公开日：20180717
摘要：本发明提供一种基板处理装置的腔室清洁方法，对具有腔室(1)、在腔室(1)内保持被处理基板(W)的台(4)、以及向被处理基板(W)照射气体团束的喷嘴部(13)、并具有利用气体团束处理被处理基板(W)的功能的基板处理装置的腔室(1)内实施清洁时，在腔室(1)内设置规定的反射部件(dW、60)，向反射部件(dW、60)照射气体团束(C)，使被反射部件(dW、60)反射的气流碰撞腔室(1)的壁部，而除去附着于腔室(1)的壁部的颗粒(P)。
申请人：东京毅力科创株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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