专利名称：用于减小表面纹理在光学扫描中的影响的方法以及
其装置
专利类型：发明专利发明人：C·R·欧利,J·F·蒙罗申请号：CN201880001460.2申请日：20180629公开号：CN109477711A公开日：20190315
摘要：方法、非暂时性计算机可读介质以及内容定制设备，向光学扫描器装置提供指令，所述光学扫描器装置被配置成能够在测试物体的表面上产生定位元素，以按二维扫描图案将所述定位元素扫描到所述测试物体的所述表面上的多个点。沿着所述测试物体的所述表面获得所述多个点中的每一者处的所述定位元素的图像的图像数据。处理所述获得的图像数据以确定所述测试物体的表面轮廓。所述二维扫描图案减少所述表面轮廓中的表面纹理错误。
申请人：阿德科尔公司
地址：美国马萨诸塞州
国籍：US
代理机构：深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙)
代理人：金辉
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