（12）实用新型专利
（21）申请号 CN200920209614.5 （22）申请日 2009.09.11
（71）申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
地址 201203 上海市张江路18号
（10）申请公布号 CN201478255U
（43）申请公布日 2010.05.19
（72）发明人 简志宏;王振辉
（74）专利代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 屈蘅
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
离子注入机的离子源
（57）摘要
本实用新型提供一种离子注入机的离
子源，其反应腔及其组件均为金属材料，该反应腔内表面经过处理而变得粗糙；同时，反应腔内表面被凹凸不平以提供规则的表面特征图案。本实用新型一方面通过提高离子源反应腔内表面的粗糙率，使沉积物更容易附着在反应腔的内壁而不脱落；另一方面通过增大反应腔内表面的面积，减少单位面积的沉积物的数量，同时还可以提高产生电浆的效率。本实用新型可以减少离子注入机的维护费用。本方法提供的离子注入方法，可
以进行粒子的直接转换，更加有效的利用了设备，提高生产率。 法律状态
法律状态公告日
2010-05-19 2010-05-19 2013-03-20 2013-03-20 2019-09-03
法律状态信息
授权 授权
专利申请权、专利权的转移 专利申请权、专利权的转移 专利权的终止
法律状态
授权 授权
专利申请权、专利权的转移 专利申请权、专利权的转移 专利权的终止
权利要求说明书
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说明书
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