专利名称：含有PMMA的中空纤维膜及其制法专利类型：发明专利
发明人：洪耀良,奚韶锋,陈翠仙申请号：CN201010153169.2申请日：20100423公开号：CN101879417A公开日：20101110
摘要：本发明涉及一种聚偏氟乙烯多孔中空纤维膜及其制备方法，其制膜的配方及其含量以质量百分比计：第一聚合物P：聚偏氟乙烯(PVDF)25～40％；第二聚合物P：聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)0～5％；第一稀释剂D：二甘醇乙酸酯36～50％；第二稀释剂D：乙二醇丁醚17～24％；采用本发明制备的PVDF中空纤维超、微滤膜，具有优良的化学稳定性，抗污染、强度高的中空纤维膜，能为MBR工艺提供高性能的膜产品。
申请人：苏州膜华材料科技有限公司
地址：215200 江苏省苏州市吴江经济开发区柳胥路479号
国籍：CN
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