专利名称：超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统专利类型：实用新型专利
发明人：游志明,何源,熊平然,郭浩,李璐申请号：CN201721383329.6申请日：20171025公开号：CN207347661U公开日：20180511
摘要：本实用新型涉及离子加速器超导腔加工技术领域，尤其是涉及一种超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统。其特点是包括混酸槽，混酸槽上端通过管路与制冷机组相连，混酸槽内设置有热交换器，混酸槽下端通过管路与酸液输送泵相连，酸液输送泵通过管路与过滤器相连，过滤器通过管路与超导腔下端和超纯水水泵相连，超纯水水泵通过管路与超纯水水箱相连，超导腔上端通过管路分别与混酸槽上端和观察窗相连，高纯氮气罐通过管路与混酸槽与超导腔之间的管路相连；其通过采用计算机对酸液的流量、流速、温度、压力和时间进行严格控制，可以实现多型号超导腔的化学缓冲抛光。而且具有很强的抗腐蚀性、高度的安全性、可靠性、可控性和易操作性。
申请人：中国科学院近代物理研究所
地址：730000 甘肃省兰州市南昌路363号科技处
国籍：CN
代理机构：兰州振华专利代理有限责任公司
代理人：张真
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