专利名称：衬底处理装置专利类型：发明专利发明人：樋口鲇美
申请号：CN201780047329.5申请日：20170727公开号：CN109564866A公开日：20190402
摘要：本发明的目的在于使衬底处理装置中的金属离子的除去性能迅速恢复。为了实现该目的，衬底处理装置1具备处理部11、供给罐12和回收罐13。在处理部11中，利用来自第1循环路径211的处理液91对衬底9实施蚀刻处理。使用完毕的处理液91被导入回收罐13，在第2循环路径223内循环。第2循环路径223包含第1部分配管223a和第2部分配管223b，在第1部分配管223a的内壁施加有包含将处理液中的金属离子除去的金属捕捉基团的金属除去涂层233。从酸系药液供给部24向第1部分配管223a供给酸系药液92从而使得金属捕捉基团的金属吸附能力再生。
申请人：株式会社斯库林集团
地址：日本京都府
国籍：JP
代理机构：北京市金杜律师事务所
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