专利名称：用于蚀刻含有铜和钛的多层膜的液体组合物、和使
用该组合物的蚀刻方法、多层膜配线的制造方法、基板
专利类型：发明专利
发明人：安谷屋智幸,夕部邦夫,玉井聪申请号：CN201480007128.9申请日：20140331公开号：CN104968838A公开日：20151007
摘要：本发明提供用于蚀刻含有铜和钛的多层膜的液体组合物、和使用该液体组合物蚀刻含有铜和钛的多层膜的方法、使用该蚀刻方法的多层膜配线的制造方法、以及设置有利用该制造方法制造的多层膜配线的基板。本发明中使用的液体组合物包含(A)马来酸根离子供给源、(B)铜离子供给源、以及(C)氟化物离子供给源，且液体组合物的pH值为0～7。
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
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