专利名称：CVD薄膜及其刻蚀处理方法专利类型：发明专利
发明人：李松举,李成,祝汉泉,苏君海,李建华申请号：CN201611079865.7申请日：20161129公开号：CN106840820A公开日：20170613
摘要：本发明提出一种CVD薄膜及其刻蚀处理方法，其中刻蚀处理方法包括：在CVD腔室内通入点火介质并点火，所述CVD腔室内放置有CVD薄膜；在所述CVD腔室内通入刻蚀气体，通过所述刻蚀气体的等离子体对所述CVD薄膜进行刻蚀。上述CVD薄膜及其刻蚀处理方法，通过在CVD腔室内通入刻蚀气体对CVD薄膜进行刻蚀，使得薄膜的成膜和刻蚀均能通过CVD设备实现，减少产品在不同岗位之间的流通次数，从而能提高生产效率。
申请人：信利(惠州)智能显示有限公司
地址：516029 广东省惠州市仲恺高新区新华大道南1号
国籍：CN
代理机构：广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人：邓云鹏
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