专利名称：一种二维孔洞阵列光栅及光栅尺位移测量系统专利类型：发明专利
发明人：周斌,贾伟,孙鹏,王津,刘炜程,周常河申请号：CN202011045243.9申请日：20200929公开号：CN112034545A公开日：20201204
摘要：本发明公开了一种二维孔洞阵列光栅及光栅尺位移测量系统，该光栅由上至下由顶层TaO介质材料构成二维圆形孔洞结构光栅层、SiO介质缓冲层、Ag金属层和基底构成光栅结构；所述的顶层二维结构介质光栅层为对称排放的二维圆柱形孔洞或圆台孔洞型阵列结构。本发明的偏振无关多层金属介质二维孔洞阵列光栅可以使TE和TM两种偏振模式的入射光以利特罗角(Littrow)入射时，(‑1，0)级反射衍射效率在中心波长780纳米波长高于98％，且两个偏振态之间的效率差异小于0.3％，衍射效率平衡达到99.74％，实现对偏振无关入射光的高效率衍射，同时制作容宽大，方便制作。
申请人：暨南大学
地址：510632 广东省广州市天河区黄埔大道西601号
国籍：CN
代理机构：广州市华学知识产权代理有限公司
代理人：雷芬芬
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