专利名称：膜形成设备专利类型：发明专利
发明人：安德里亚斯·索尔,安拉贝拉·霍夫曼申请号：CN201580085470.5申请日：20151221公开号：CN108474112A公开日：20180831
摘要：描述一种用于处理基板上的薄膜的设备。所述设备包括：真空腔室，所述真空腔室包括外壳、后壁和可移除闭合板；处理滚筒，所述处理滚筒在真空腔室内布置在后壁与可移除闭合板之间，所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围；第一工艺分隔壁部分，所述第一工艺分隔壁部分附接到可移除闭合板；以及第二工艺分隔壁部分，所述第二工艺分隔壁部分附接到外壳或后壁；其中在可移除闭合板的闭合位置中，第一工艺分隔壁部分和第二工艺分隔壁部分共同提供工艺分隔壁，所述工艺分隔壁将处理区域分成相邻的处理区段。
申请人：应用材料公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：北京律诚同业知识产权代理有限公司
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