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一种集成电路布图登记所需图层的制作方法

2020-05-07 来源:客趣旅游网
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(21)申请号 CN201410681459.2 (22)申请日 2014.11.25

(71)申请人 中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心

地址 215163 江苏省苏州市高新区龙山路89号

(10)申请公布号 CN104376178A

(43)申请公布日 2015.02.25

(72)发明人 吕江萍;杨林敏;刘彬;刘霞;王丽丽;陈超 (74)专利代理机构 南京纵横知识产权代理有限公司

代理人 董建林

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

一种集成电路布图登记所需图层的制作方法

(57)摘要

本发明公开了一种集成电路布图登记所需

图层的制作方法,包括以下步骤:将集成电路版图的gds格式数据文件导入打平;选择具有工艺特征的某一图层,将该层打印成1个电子文档文件;依次设置图片文件页面的页边距,去掉与版图图形无关的图形,仅保留版图图形,使要拼接的相邻的版图图形正好与页边距对齐,并转换成若干份该层的jpeg格式文件;选择该图层的若干份jpeg格式文件,对照芯片版图的形状,设置

jpeg格式文件的相应位置,并拼接成一张图形文件;对拼接后的一张图形文件进行评价;将制作好的每个图层的文件汇总到一个文件中,形成该集成电路布图登记的图层文件。本方法减少了拼接工作量,提高了拼接精度,可满足图层制作的要求。

法律状态

法律状态公告日2015-02-25 2015-02-25 2015-03-25 2015-03-25 2018-05-04

法律状态信息

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效

发明专利申请公布后的驳回法律状态

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效

发明专利申请公布后的驳回

权利要求说明书

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说明书

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