专利名称：基板清洗设备及基板清洗方法专利类型：发明专利发明人：李祥龙
申请号：CN202011254801.2申请日：20201111公开号：CN112435938A公开日：20210302
摘要：本申请实施例提供了一种基板清洗设备及基板清洗方法。其中，该基板清洗设备包括混合装置和清洗装置。其中，所述混合装置用于将臭氧和水进行混合，形成臭氧水；所述清洗装置用于利用所述混合装置中形成的所述臭氧水对所述基板进行清洗。本方案通过将臭氧溶解于水中，利用臭氧水对基板进行清洗，从而可以避免紫外光对基板上的薄膜晶体管的电性产生影响。
申请人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
地址：518132 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
国籍：CN
代理机构：深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人：李新干
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